光学镀膜
我们的光学镀膜工艺包括：EBE镀膜、IBS镀膜、IAD镀膜和APS镀膜技术。
工艺和设备，缺一不可
光学镀膜是指在光学零件表面镀一层或多层金属或介电薄膜的过程。光学零件表面涂覆的目的是减少或增加对光的分离、反射、光束分离、过滤、截止、偏振等要求。如果设计和制造得当，这些涂层可以显着改变光学元件的反射和透射特性。通常，想要实现的涂层类型已经决定使用哪种镀膜工艺。
语荻光电目前拥有多个薄膜镀膜室，装配了钟罩式热蒸发器、电子束箱镀膜机， Tecport电子束蒸发器和 德国莱宝IBS 镀膜机，可以提供多种镀膜工艺的加工，包括先进的电子束蒸发，离子束溅射，离子辅助沉积，和先进等离子溅射工艺，满足不同类型的应用需求。结合多个可互换的行星转盘，Precision Optical 目前能够对小至 10 毫米（直径）、大至1200毫米（直径）的基材进行镀膜。预计到2024年夏天，随着语荻杭州生产基地的正式投产，我们的镀膜直径将达 2000 毫米的范围。
电子束蒸发
电子束蒸发 (EBE) 利用电子束将源材料升华为蒸气，然后将其沉积到基材上。 EBE 在高真空条件下运行，是生产高质量光学镀膜的理想选择， 常应用于光学透镜、激光透镜和薄膜滤光片。
离子束溅射
语荻借助德国莱宝IBS 镀膜设备，提供具有超低光学镀膜损耗的离子束溅射技术（IBS)，形成高质量、致密的薄膜。非常适合用于激光光学装置、陀螺仪、计量学、显微镜学、电信和其他要求苛刻应用的高精度镀膜。
离子辅助沉积
离子辅助沉积（IAD)是一种物理气相沉积（PVD）技术，该技术的主要优点是提高薄膜的密度和附着力，从而提高薄膜的光学性能和耐久性。 因此常用于制备减反射涂层和激光镜片。
先进等离子溅射
利用热阴极直流辉光放电等离子体代替传统的离子束来沉积涂层材料，先进等离子溅射技术(APS)创造了光滑、致密和坚硬的涂层，提供了高效、经济的大规模涂层制备方式，同时提供了出色的光学性能。它在兼顾性能与成本之间找到了一个平衡，为多样化的应用领域提供了更多选择。
我们的优势
一流的涂层设计
为您的应用需求，可实现涂层的精确设计和优化。我们提供定制涂层厚度和折射率，以增强所需波长范围内的性能，确保各种应用的最佳结果。
最先进的镀膜设备
全功能镀膜车间包括全自动超声波清洗系统、莱宝镀膜机、ZYGO干涉仪等检测设备，以完成真正的内部镀膜工艺。
多种镀膜工艺
多种的镀膜工艺，使我们能够满足客户在各个维度的需求，包括大批量镀膜、高精度镀膜和高性价比镀膜。 Yudi 可以为每种需求提供最佳的镀膜方案。
广泛的涂层选择
从镀膜工艺，涂层的种类，到待镀膜光学元件的基材，形状和尺寸的等，语荻提供了业内最大范围的最佳选择。
为您的应用选择合适的涂层
可实现反射率精度范围：0.2 – 99.5%
目前的镀膜波长范围为193nm – 14μm，涵盖紫外、可见光、中红外和远红外。
我们可以镀膜的光学器件尺寸范围从 5 毫米到 1,000 毫米，到 2024 年将增长到 2,000 毫米。
我们的薄膜涂层包括但不限于氧化物和氟化物介电多层涂层材料，包括MgF2、SiO2、Ta2O5、HfO2等数十种。